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真空镀膜时控制膜层厚度的方法有：
1、由时间和功率控制膜层的厚度：根据厚度等于时间乘以速率，改变功率以保证V接近常数，再通过时间来控制厚度；
2、石英晶体监控：监测晶振片的振动频率，根据厚度与频率的变化关系，计算当前厚度来控制；
3、光学监控：直接测量膜系的光学特性；
4、目测：肉眼观测反射颜色来控制膜层厚度，误差太大。
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